等離子清洗機是一種采用氣體作為清洗介質的設備，等離子清洗機英文名稱為：plasma cleaner，也叫等離子表面處理機，是一種全新的高科技清洗技術，利用等離子體來對物體表面實現常規清洗方法達不到的效果。與傳統的濕法清洗機相比，具有有效地避免因液體清洗介質對被清洗物帶來二次污染的優勢。等離子清洗機工作時，產生的等離子體作用被清洗物的表面，能在短時間使有機污染物被徹底地清洗掉，其清洗程度達到分子級。

常用氣體有：氫氣、氧氣、四氟化碳等，這些氣體所產生的等離子體會充分和被處理物表面發生反應，當壓力較高時，對等離子的產生越有利。

主要就是利用離子作為純物理撞擊的介質，把被處理物表面的“污染物”分子打掉，離子的能量越高，物理作用越強，這樣清洗的效果則越好。

    離子清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。所以，等離子表面處理機并不是什么臟東西都能洗掉，它是比較針對性的去除某些物質和材料表面改性處理。

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